Das Gefüge vieler Bauteile weicht im oberflächennahen Bereich von der Struktur in der Tiefe ab. Dies ist der Fall z. B. bei Metallen durch Wärmebehandlung, Härtung oder mechanische Bearbeitung. Gerade die Struktur an der Oberfläche ist aber maßgeblich verantwortlich für viele Eigenschaften eines Bauteils, deren Visualisierung und Vermessung kann daher viel zum Verständnis der Bauteileigenschaften beitragen. Das gleiche gilt auch für Beschichtungen auf Oberflächen.

Eine Beurteilung der Kornstruktur an metallografischen Schliffen ist aber problematisch, gerade im oberflächennahen Bereich werden Artefakte erzeugt durch Kantenverrundung und mechanische Schädigungen durch den Schleif- und Polierprozess. Hier kann durch eine lokale Querschnittspräparation im FIB (Focused Ion Beam) mit einer FIB-Abbildung (Abrasterung der Probe mit beschleunigten Ga-Ionen, ioneninduzierte Sekundärelektronenbilder) Abhilfe geschaffen werden: Mit einem fokussierten Ionenstrahl wird ein kleiner Querschnitt in die Probenoberfläche geschnitten und auch poliert. Artefakte, wie oben beschrieben, lassen sich dabei vermeiden. Die Schnittbreite liegt im Mikrometer bis 100-Mikrometer-Bereich. Anschließend wird die Schnittfläche abgebildet, hier bietet die FIB-Abbildung ganz spezifische Vorteile: Die Intensität der Sekundärelektronen, die beim Auftreffen der beschleunigten Ga-Ionen erzeugt werden, hängt hauptsächlich von der Kornorientierung ab (sog. Channeling-Kontrast). Unterschiedlich orientierte Körner bekommen im Bild eine unterschiedliche Helligkeit, die Kornstruktur der Probe wird deutlich sichtbar.