Ausstattung
Im IFOS steht die nahezu vollständige Palette von Verfahren der modernen Oberflächen- und Schichtanalytik zur Verfügung.
Abhängig von der konkreten Aufgabenstellung setzen wir diese je nach geforderter Nachweisempfindlichkeit, Orts- und/oder Tiefenauflösung ein.
Oberflächenmassenspektrometrie
Dynamische Sekundärionen-Massenspektrometrie (dynamisches SIMS)
Flugzeit-Massenspektrometrie (ToF-SIMS)
Sekundärneutralteilchen-Massenspektrometrie (SNMS)
3D-Atomsonden-Tomografie (3D-APT)
Elektronenspektroskopie
Auger-Elektronenspektroskopie (AES)
Röntgen-Photoelektronenspektroskopie (XPS, ESCA)
Ultraviolett-Photoelektronenspektroskopie (UPS)
Mikrobereichsanalyse
Rasterelektronenmikroskopie (REM, SEM) mit
energiedispersiver Röntgenanalytik (EDX)
wellenlängendispersiver Röntgenanalytik (WDX)
Beugung rückgestreuer Elektronen (EBSD)
Focused Ion-Beam in Kombination mit Rasterektronenmikroskop (Dual-Beam-FIB)
Nanobereichsanalyse
Transmissions-Elektronenmikroskopie (TEM) mit
energiedispersive Röntgenanalytik (EDX)
Elektronenenerieverlustspektroskopie (EELS)
Elektronenbeugung in Transmission (TED, SAD)
automatisiertes Kristall-Orientierungs-Mapping (ACOM)
TEM-Präparation (Ultramikrotomie, Ionendünnen, FIB, …)
Rasterkraftmikroskopie (SFM, AFM)
Mikro- und Nanoindentation
Nanoscratch
Röntgenanalyse
Röntgendiffraktometrie (XRD)
Röntgenreflektometrie (XRR)
Weiteres
Tribometrie
Fourier-Transform-Infrarot-Spektroskopie (FT-IR)
Raman-Spektroskopie
UV-Vis-Spektroskopie
Weißlichtinterferometrie (WLI)
Kontaktwinkelanalyse
Metallografie
Lichtmikroskopie
