Über uns

Über uns

Das Institut für Oberflächen- und Schichtanalytik IFOS GmbH wurde im Dezember 1989 als gemeinnützige Forschungseinrichtung des Landes Rheinland-Pfalz gegründet. Seit 1996 hat es den Status einer wissenschaftlichen Einrichtung der Technischen Universität Kaiserslautern.

Die Kernkompetenzen des Instituts mit seinen über 20 Mitarbeitern liegen sowohl in der Forschung und Entwicklung auf dem Gebiet der instrumentellen Oberflächen- und Schichtanalytik, als auch im praxisrelevanten Einsatz oberflächensensitiver Analysemethoden.

Wir verstehen uns als Bindeglied zwischen universitärer Forschung und marktausgerichteter Wirtschaft, um durch unsere gemeinnützige Tätigkeit einerseits die Forschungsinteressen der Wirtschaft im Hinblick auf gegenwärtige und zukünftige Produkte und Produktionsmethoden zu verfolgen und andererseits wissenschaftliche Forschungsergebnisse aus den Universitäten und sonstigen Forschungseinrichtungen auf die angewandte Forschung und Wirtschaft zu übertragen. Dazu führen wir Forschungsarbeiten im Rahmen der Auftragsforschung und mit der freien Wirtschaft und, häufig mit Kooperationspartnern aus dem universitären Bereich, im Rahmen von öffentlich bezuschussten Forschungsprojekten durch.

Der Arbeitsschwerpunkt des Instituts ist die Bestimmung der Zusammensetzung, der chemischen Bindungseigenschaften und der Struktur von Festkörperoberflächen und Dünnschichtsystemen. Das IFOS bietet Nutzern aus der Industrie, Universitäten und aus anderen Forschungseinrichtungen direkten Zugang zu den heute verfügbaren, in der Regel sehr aufwendigen und teuren Analysetechniken und unterstützt damit nachhaltig den Transfer dieser Verfahren in die technologische und industrielle Praxis.

Hierzu wird im IFOS nahezu das komplette Spektrum der heute verfügbaren Methoden zur höchstauflösenden chemischen und strukturellen Analyse von Oberflächen und dünnen Schichten eingesetzt: Elektronenspektroskopische und massenspektrometrische Verfahren (AES, XPS bzw. SIMS, SNMS und 3D Atomsonden-Tomografie) ermöglichen die Charakterisierung der chemischen Zusammensetzung von Oberflächen und Dünnschichtstrukturen mit hoher vertikaler sowie lateraler Auflösung bis herab in den Nanometerbereich. Feinbereichsanalysen bis in atomare Dimensionen erlauben die Rasterkraft- (AFM) und die Transmissions-Elektronenmikroskopie (TEM). Ferner stehen moderne Anlagen für Röntgenstruktur-Messungen (XRD), für die Rasterelektronen-Mikroskopie (REM) sowie für Focused Ion Beam – Analysen (FIB) zur Verfügung.

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